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8億元銅芯口罩之所以引起爭議，其中一個重點是政府最初向公眾介紹時，多番強調口罩已取得專利，更獲2018年日內瓦國際發明展金獎；涉事專利及獲獎的關鍵原因是「弱磁場」技術，而現時的銅芯口罩並沒採用有關技術。創科局常任秘書長蔡淑嫻今天（8日）下午在記者會上，被追問時否認誤導市民，只稱局方如能及早解釋清楚，或可避免令市民困惑。

香港紡織及成衣研發中心（HKRITA）在2018年曾發新聞稿，公佈其研發的口罩獲日內瓦國際發明展金獎，稿中有一半篇幅介紹口罩加入了獨特技術「弱磁場」，可提升過濾功能，增加過濾顆粒和微生物的機率；專利文件闡述的專利技術同樣涉及「弱磁場」，但原來與現時銅芯口罩的「以銅防菌」原理風馬牛不相及。

當日獲發明金獎的可重用口罩，只有三層及可清洗10至20次，產品描述目的是用以擋隔空氣污染，惟這些元素全在銅芯口罩中消失。銅芯口罩設計成六層，並利用銅表面不利細菌存活的特性作為抗菌物料，跟「弱磁場抗污染口罩」是完全不同，肯定不屬於金獎設計，亦沒應用相關專利的核心技術。

HKRITA行政總裁葛儀文在記者會上承認，獲獎及取得專利的口罩有採用弱磁場技術，不過重複清洗會減弱其功能，最多只可清洗20次；而現時的銅芯口罩，則是「參照」了日內瓦獲獎項目，兩者都有人體工學、防菌等技術，但銅芯抗疫口罩並無採用具專利的弱磁場防污染技術，但聲稱此改動可令原本只可重洗20次「改良」至可重洗60次；並將原本只有1層銅芯增至2層，其中一層為最外層的氧化銅紗物料；口罩亦較符合亞洲人面形，「功能加強咗。」

葛解釋，銅芯口罩的人體工學、以「微粒銅」抗菌等部份知識產權是繼承自舊版本口罩，所以雖然沒採用弱磁場技術，早前作介紹時也因應其背景知識產權（background IP）特別提及舊版本的專利及獎項。

葛儀文又指，部份口罩在本港生產，廠房位於大埔，但未有公佈其餘生產地點。被問到有關口罩的ASTM Level標準時，他僅表示口罩獲國際公認機構認證，採用EN14683標準，未有詳細透露國際公認機構的名稱。他續指，政府已就口罩申請專利，又形容其設計與2018年日內瓦獲獎口罩是「父子關係」，但未有交代相關獲獎項目名稱。

創科局常任秘書長蔡淑嫻被傳媒追問時多番否認有誤導市民，只稱如當初可及早解釋清楚專利及獎項問題，或可避免令市民困惑；又多次重複強調政府是依賴HKRITA的專家意見，才作相關介紹。

蔡淑嫻又補充，現時有數十萬個小童用的銅芯口罩仍在製作，預計5月下旬完成，6月完成派發後，項目便正式完結，HKRITA也正準備帳目，預計核數後可於8月公佈。

記者 伍雅謙、梁御和

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